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    科目: 來源: 題型:

    【題目】某有機物分子式為 C4H8,據此推側其結構和性質不可能的是

    A. 它與乙烯可能是同系物

    B. 一氯代物只有一種

    C. 分子結構中甲基的數目可能是 0、1、2

    D. 等質量CH4C4H8分別在氧氣中完全燃燒,CH4的耗氧量小于C4H8

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】已知二氧化硅,二氧化硫和二氧化碳都是酸性氧化物,化學性質具有一定的相似性,鎂和鈉的化學性質也具有一定的相似性.

    用如上圖所示裝置進行鎂和二氧化硫的實驗,其中A是制備二氧化硫的發生裝置。

    (1)選擇制取二氧化硫的合適試劑_____________________________填序號。

    的硫酸溶液②硫酸溶液③亞硫酸鈉固體④亞硫酸鈣固體

    (2)寫出裝置B中發生置換反應的化學方程式:_____________________________裝置C中氫氧化鈉溶液的作用是_____________________________

    (3)請在圖中畫出制備二氧化硫的發生裝置,注明儀器名稱,固定儀器省略不畫。_______________

    (4)你認為該裝置的不足之處____________________________________________________任寫2

    某研究性學習小組進行了實驗室制硅的研究,查閱資料知:①工業上在高溫時用碳還原二氧化硅可制得硅;②鎂在點燃的條件下即可與二氧化硅反應;③金屬硅化物與稀硫酸反應生成硫酸鹽與四氫化硅;④四氫化硅在空氣中自燃.

    他們在實驗報告中記錄著:選用合適的物質在適宜的條件下充分反應,再用足量稀硫酸溶解固體產物;然后過濾,洗滌,干燥,最后稱量在用稀硫酸溶解固體產物時,發現有爆鳴聲和火花,其產率也只有預期值的左右.

    (5)該小組實驗室制硅的化學方程式是_____________________________

    (6)你估計用稀硫酸溶解固體產物時,發現有爆鳴聲和火花:的原因是_____________________________

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】綜合利用海水資源可以制備氯化銨、純堿、金屬鎂等物質,其流程如下:

    (1)反應①⑤中,屬于氧化還原反應的是______________(填序號)。

    (2)寫出反應②的離子方程式__________________________________________________。

    (3)X溶液中的主要陽離子是Na+____________。

    (4)粗鹽中含有Na2SO4、MgCl2、CaCl2等雜質,為制得純凈的NaCl晶體,操作如下:①溶解;②依次加入過量的BaCl2溶液、NaOH溶液、Na2CO3溶液;③_____;④加適量鹽酸;⑤_____(請補全缺少的實驗步驟)。

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】下列說法正確的是

    A. 乳酸薄荷醇酯()僅能發生水解、氧化、消去反應

    B. 乙醛和丙烯醛()不是同系物,它們與氫氣充分反應后的產物也不是同系物

    C. 淀粉和纖維素在酸催化下完全水解后的產物都是葡萄糖

    D. CH3COOCH2CH3CH3CH2COOCH3互為同分異構體,1HNMR譜顯示兩者均有三種不同的氫原子且三種氫原子的比例相同,故不能用1HNMR來鑒別

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】某同學設計了一個簡單的實驗(如圖所示),以測定鎂鋁合金中鋁的質量分數?晒┻x用的試劑有:濃H2SO4、濃硝酸、6 mol·l-1NaOH溶液。

    請填寫下列空白:

    1)有關實驗操作:a、往試管中放入適量的鋁合金樣品;b、從分液漏斗往試管中加入過量的A溶液;c、檢查裝置的氣密性;d、測定收集到的水的體積。

    正確的操作順序為_________________________________________。

    2A溶液可選用________________________________________

    3)若實驗中測得樣品的質量為W g ,氫氣的體積為a L(標準狀況),則樣品中Al的質量分數為_______________________________________。

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】某小組研究AgCl的溶解平衡:向10 mL 1mol/L KCl 溶液中加入1 mL 0.2 mol/LAgNO3溶液,將渾濁液均分為2份,進行如下實驗:

    實驗序號

    實驗操作

    實驗現象

    I

    將其中一份渾濁液過濾,向濾液中放入Mg

    i. 濾液澄清透明,用激光照射有丁達爾現象。

    ii. 放入Mg條后,立即有無色氣泡產生,氣體可燃,濾液中出現白色渾濁。

    iii. 一段時間后開始出現棕褐色渾濁物,Mg條表面也逐漸變為棕褐色,產生氣泡的速率變緩慢。

    II

    向另一份渾濁液中放入大小相同的Mg

    iv. 棕褐色渾濁物的量明顯多于實驗I,Mg條表面棕褐色更深,其他現象與ii、iii相同。

    已知:AgOH不穩定,立即分解為Ag2O(棕褐色或棕黑色),Ag粉為黑色,AgCl、Ag2O可溶于濃氨水生成Ag(NH3)2

    1)濾液所屬分散系為________。

    2)現象ii中無色氣泡產生的原因是_________(寫出化學方程式)。

    3)現象iii中,導致產生氣泡的速率下降的主要影響因素________。

    4)甲認為Mg條表面的棕褐色物質中一定有AgAg2O,其中生成Ag的離子方程式為____。

    5)甲設計實驗檢驗Ag:取實驗I中表面變為棕褐色的Mg條于試管中,向其中加入足量試劑a,反應結束后,繼續向其中加入濃硝酸,產生棕色氣體,溶液中有白色不溶物。

    白色不溶物為_____(填化學式),棕色氣體產生的原因是_____(寫離子方程式)。

    試劑a________,加入試劑a的目的是________。

    該實驗能證明棕褐色物質中一定有Ag的實驗現象是________。

    6)甲進一步設計實驗驗證了Mg條表面的棕褐色物質中有Ag2O,實驗方案是:取實驗I中表面變為棕褐色的Mg_________。

    7)綜合上述實驗,能說明存在AgCl(s) Ag+(aq) + Cl(aq)的證據及理由有________。

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】已知:2NO2 N2O4 △H0,CaO溶于水放熱,NH4Cl晶體溶于水吸熱.在3個體積相等的圓底燒瓶中充滿等量的NO2氣體,并分別放置在加有下列物質的燒杯(燒杯內有水)中:(1)中加入CaO,(2)中加入NH4Cl晶體,(3)中不加任何其它物質,如圖所示.下列敘述正確的是(

    A.1)中紅棕色變深,(2)中紅棕色變淺

    B.1)中紅棕色變淺,(2)中紅棕色變深

    C.燒瓶(1)中氣體的壓強不變

    D.燒瓶(2)中氣體的壓強增大

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】高氯酸銨(NH4ClO4)為白色晶體,是強氧化劑,常用作火箭發射的推進劑。已知:①NH4ClO4400℃時開始分解,產物為N2、Cl2、O2、H2O;②Mg3N2易水解。請用下圖所示裝置設計實驗證明分解產物中含有Cl2、H2O以及裝置A中生成了Mg3N2(裝置不重復使用)。

    (1)寫出高氯酸銨分解的化學方程式__________。

    (2)高氯酸銨分解選擇的裝置是__________(填字母)。

    (3)按氣流從左到右,裝置的連接順序是:分解裝置→_____→_____→_____→_____→_____。______________

    (4)C中所放的試劑是__________,G的作用是__________ 。

    (5)能證明有Cl2產生的現象是__________。

    (6)要證明裝置A中生成了Mg3N2需要進行的實驗操作以及對應的實驗現象是__________。

    (7)某實驗宣存放的高氯酸銨樣品中含有少量雜質,已知可用蒸餾法測定NH4ClO4的含量,其測定流程如下(雜質不參加反應),則樣品中NH4ClO4的含量(w)__________。

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】下列根據反應原理設計的應用,不正確的是(

    A.CO32-H2OHCO3-OH 熱的純堿溶液清洗油污

    B.Al33H2OAl(OH)33H 明礬凈水

    C.TiCl4(x2)H2O(過量)TiO2·xH2O↓4HCl 制備TiO2·xH2O

    D.SnCl2H2OSn(OH)ClHCl 配制氯化亞錫溶液時加入氫氧化鈉

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    科目: 來源: 題型:

    【題目】1)磷是地殼中含量較為豐富的非金屬元素,主要以難溶于水的磷酸鹽如Ca3PO42等形式存在。它的單質和化合物在工農業生產中有著重要的應用。

    白磷(P4)可由Ca3PO42、焦炭和SiO2在一定條件下反應獲得。相關熱化學方程式如下:

    2Ca3PO42s+10Cs═6CaOs+P4s+10COg)△H1+3359.26 kJmol1

    CaOs+SiO2s═CaSiO3s)△H2=﹣89.61 kJmol1

    寫出白磷(P4)由Ca3PO42、焦炭和SiO2在一定條件下反應的熱化學方程式為:_____。

    2)電子工業中清洗硅片上的SiO2s)的反應為SiO2s+4HFg═SiF4g+2H2Og)△H298.15 K)=﹣94.0 kJmol1S298.15 K)=﹣75.8 Jmol1K1,設△H和△S不隨溫度而變化,此反應自發進行的溫度是_____

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